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主要光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片、分光鏡等,廣泛應用于國民經濟和國防建設,越來越受到科技工作者的重視。例如,使用減反射膜后,復雜光學鏡頭的光通量損失可以減少10倍;使用高反射膜比的反射鏡可以增加激光器的輸出功率;使用光學膜可以提高硅電池的效率和穩定性。
簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄膜層。在這種情況下,光學薄膜的光學性質可以通過光的干擾理論來研究。當一束單色光平面波進入光學薄膜時,它的兩個表面反射多次,反射定律和折射定律給出反射光和折射光的方向,菲涅爾公式確定反射光合折射光的振幅。
光學薄膜可分為反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補償膜/相位差板、配向膜、擴散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關衍生物有光學保護膜、窗膜等。
光學薄膜的特點是表面光滑,薄膜之間的界面幾何分割;薄膜的折射率可以在界面上跳躍,但在薄膜中是連續的;可以是透明介質,也可以是吸收介質;可以是均勻的,也可以是不均勻的。實際應用的薄膜比理想的薄膜要復雜得多。這是因為:在制備過程中,薄膜的光學和物理性質偏離大材料,表面和界面粗糙,導致光束的漫反射;薄膜之間的相互滲透形成擴散界面;由于薄膜的生長、結構、應力等原因,形成各種向異性;復雜的時間效應。
反射膜一般可分為兩類,一類是金屬反射膜,另一類是全電介質反射膜。此外,還有金屬電介質反射膜,可以增加光學表面的反射率。
一般來說,金屬具有較大的消光系數。當光束從空氣進入金屬表面時,進入金屬的光振幅迅速衰減,進入金屬的光能相應減少,反射光能增加。消光系數越大,光振幅衰減越快,進入金屬的光能越少,反射率越高。人們總是選擇消光系數大、光學性能穩定的金屬作為金屬膜材料。紫外線區常用的金屬薄材料是鋁,可見光區常用的鋁和銀,紅外區常用的金、銀和銅。此外,鉻和鉑通常用作一些特殊薄膜的薄膜材料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中容易氧化,性能降低,必須用電介質膜進行保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。
金屬反射膜的優點是制備工藝簡單,工作波長范圍廣;缺點是光損大,反射率不能很高。為了進一步提高金屬反射膜的反射率,可以在膜外涂幾層一定厚度的電介質層,形成金屬電介質反射膜。需要指出的是,金屬電介質膜增加了一定波長波區)的反射率,但破壞了金屬膜的中性反射特性。